干燥箱/烘箱產品及廠家
堅膜無塵烤箱，半導體無塵烘箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過程中堅膜工藝。也用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
更新時間:2025-09-04
高溫低濕烘箱 超低濕高溫烤箱應用場景?：led燈珠、ic芯片等濕敏元器件需在40~90℃、濕度≤5％rh的烘箱中預烘烤，避免回流焊時出現(xiàn)“爆米花”效應?
更新時間:2025-09-04
烘箱，精密烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-09-04
碳化硅hmds烘箱，sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時間:2025-09-04
晶圓無氧烘箱，藍寶石厭氧烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內持續(xù)充氮，使烘箱工作室內處于潔凈狀態(tài)。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動停電及報警電路，控制可靠，使用安全
更新時間:2025-09-04
芯片精密循環(huán)烤箱，可編程精密烘箱是一種高功能、高信賴度烤箱，結構、材質強度、保溫、循環(huán)風道等均設計精良，且外形美觀、操作方便。空氣循環(huán)系統(tǒng)為水平式循環(huán)送風，風源由循環(huán)馬達運轉帶動風輪經電熱器，將熱風由風道送至烤箱內部，且將使用后空氣吸入風道成為風源再度循環(huán)加熱，如此可得到較佳的溫度均勻性，均勻度可達±1.5％，當門開、關動作引起擾動時，可借此送風循環(huán)系統(tǒng)迅速回復操作狀態(tài)溫度值
更新時間:2025-09-04
secs / gem通訊無氧烘箱，無氧烤箱在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……設備可以使用tcp / ip（使用hsms標準，semi e37）或基于rs-232的協(xié)議與支持gem的主機進行通信。通常這兩種協(xié)議都受支持。
更新時間:2025-09-04
潔凈氮氣熱風烘箱，精密充氮是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內持續(xù)充氮，使烘箱工作室內處于潔凈狀態(tài)。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設有超溫自動斷開加熱及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-09-04
無氧烘箱，20ppm無氧烘箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，形成高溫、低氧（無氧）、潔凈環(huán)境，特別適合半導體制造、cob封裝、ic封裝、石英玻璃、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求.
更新時間:2025-09-04
加工半導體用烤箱， secs / gem無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后固化、堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-09-04
晶圓百級潔凈烤箱，可編程潔凈烘箱一種采用單面水平由后向前送風熱風循環(huán)系統(tǒng)，風源由循環(huán)馬達運轉帶動風輪經電熱器，將熱風由風道送至烤箱內部，且將使用后空氣吸入風道成為風源再度循環(huán)加熱，省電節(jié)能溫度均勻性好，過濾效率99.99%，class 100的潔凈烘箱
更新時間:2025-09-04
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達到真空狀態(tài)后開始涂布工藝，涂布完成后烘箱內部充入n2，達到常壓后方可開門。
更新時間:2025-09-04
無氧高溫烘箱，百級無氧烘箱主要應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求。應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).
更新時間:2025-09-04
高溫充氮潔凈烘箱，無塵充氮烤箱是一種耐高溫，可以達到和工作場所同樣的潔凈等級的烘箱。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-09-04
無氧烘箱，無氧烤箱氧濃度儀應用于精密電子元件、pi、bcb、lcp固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導體制造、cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求
更新時間:2025-09-04
烘箱，實驗室小型烘箱可用于各企業(yè)、檢測化驗室、科研院所等用于干燥、烘焙、熔臘、高溫滅菌等。它對各種材料、設備、電工電子產品、武器裝備等的適應性與可靠性試驗都是必不可少的。在航天、航空、船舶、兵器、電子、石化、郵電、通訊、汽車、醫(yī)療、高校等領域貢獻突出。
更新時間:2025-09-04
無塵烤箱配備hepa過濾器，以保持爐腔無顆粒。 hepa過濾器（高效微粒捕獲）現(xiàn)在是電子和平板顯示器潔凈室組裝的主要過濾系統(tǒng)，或任何需要大程度減少或去除亞微米微粒的應用。 hepa過濾器具有隨機定位的微玻璃纖維的深床，其中與平均纖維直徑和自由路徑橫截面的有效孔相比，總床深度（過濾器的厚度）非常大。
更新時間:2025-09-04
電線電纜真空干燥箱，線纜絕緣吸水真空試驗箱符合gb/t2951.13-2008等標準的要求。特別適合于對干燥熱敏性、易分解、易氧化物質和復雜成分物品進行快速高效的干燥處理。
更新時間:2025-09-04
碳化硅hmds烘箱，sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時間:2025-09-04
硅片充氮烘箱，半導體充氮烤箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環(huán)。烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數(shù)顯溫度控制儀進行自動控制p.i.d調節(jié),數(shù)顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可滿足電子電器、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口
更新時間:2025-09-04
真空無氧烘箱是一種提供高溫、低氧、潔凈環(huán)境的特殊制程設備。烘箱內部為不銹鋼結構，全部采用無塵材料，箱內可充氮、真空，使烘箱工作室內處于低氧、潔凈狀態(tài)。工作室內溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，曲線升溫、恒溫、快速降溫。并附設有超溫斷開加熱、氧含量檢測、輔助降溫裝置及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2025-09-04
充氮pi烘箱，pi充氮烤箱升溫速率可控，設定工藝曲線，一鍵運行；輔助降溫縮短降溫時間，提高生產效率；可達到低氧環(huán)境，固化效果更佳。
更新時間:2025-09-04
聚酰亞胺pi無氧烘箱，氮氣亞胺化烘箱應用于精密電子元件、pi、cpi/pbo/lcp/bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求
更新時間:2025-09-04
不銹鋼無塵烤箱，雙層無塵烘箱應用于目關鍵的半導體電子行業(yè)（如硅片干燥，堅膜烘烤，裝片機后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，雙層無塵烘箱還在led制造行業(yè)中用于烘烤玻璃基板、無機材料行業(yè)中用于材料高精度工序。
更新時間:2025-09-04
hmds真空鍍膜機，光刻hmds鍍膜烤箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-09-04
真空熱風烘箱，高溫熱風真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時間:2025-09-04
該工業(yè)烘烤箱是一種新型可營造無氧潔凈恒溫環(huán)境的電熱鼓風烘箱箱,在加溫工作的同時充入氮氣,適用高溫易氧化產品的烘烤加熱。
更新時間:2025-09-04
電熱鼓風烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-09-04
bcb無氧烘箱，bcb固化烤箱用于半導體晶片、半導體封裝和mems器件的批量生產。主要用于pi固化，bcb固化，pbo固化，lcp纖維熱處理。
更新時間:2025-09-04
百級潔凈烘箱，充氮潔凈烘箱是一種用于對于生產過程中用于產品對潔凈度高要求的加熱烘烤設備。本產品具有安全性好，潔凈度高,節(jié)能效果優(yōu)，保溫性佳，溫度均勻性好。大多應用于烘烤光學、光電、光纖,精密電子及醫(yī)藥器材等欲烘烤物品的烘干或溫升處理等。
更新時間:2025-09-04
hmds烘箱 圖像反轉系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機使用hmds（六甲基二硅氮烷）對晶圓表面進行快速、均勻、經濟高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。
更新時間:2025-09-04
硅片充氮烘箱，無氧充氮烤箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設備.適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-09-04
真空無氧烘箱，無氧化真空烤箱將高純度氮氣充入烤箱內部，從而置換腔內空氣降低氧濃度，來防止部分物料在高溫環(huán)境下加速氧化的現(xiàn)象。烤箱抽取真空后，充入氮氣，再抽取真空，多次循環(huán)后可以確？鞠涞墓ぷ魇姨幱跓o氧的狀態(tài)，避免活性較強的物料在高溫有氧的環(huán)境下被氧化而損壞。
更新時間:2025-09-04
大型真空烘箱，電熱真空干燥箱適用于各種產品或材料及電氣、儀器、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊、塑膠、機械、化工、食品、化學品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。
更新時間:2025-09-04
pi真空固化烤箱，水冷卻pi固化爐用于光刻膠bcb，聚酰亞胺pi固化，晶圓干燥烘烤等工藝，主要用于集成電路、化合物半導體、mems微機電、tft/lcd等半導體相關行業(yè)。
更新時間:2025-09-04
真空干燥箱，高溫真空箱定做適用于各種產品或材料及電氣、儀器、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊、塑膠、機械、化工、食品、化學品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。
更新時間:2025-09-04
充氮真空烘箱，快速降溫真空烤箱用于鍵合材料的真空預處理 、bcb固化、ito膜退火，pi膠固化等工藝。廣泛應用于半導體、電子產品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場所。
更新時間:2025-09-04
secs/gem協(xié)議無塵烘箱，無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；設備可以使用tcp / ip（使用hsms標準，semi e37）或基于rs-232的協(xié)議與支持gem的主機進行通信通常這兩種協(xié)議都受支持。每臺設備都可以使用由gem指定的通用secs-ii消息進行監(jiān)控和控制。
更新時間:2025-09-04
無氧烘箱，光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化，光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，
更新時間:2025-09-04
lcp熱處理烘箱，lcp纖維氮氣烘箱是將液晶聚合物(lcp)當加熱到足夠高的溫度，lcp熔融形成液晶熔融相(經常叫做“各向異性相”)而不是各向同性熔融相。
更新時間:2025-09-04
潔凈無氧烤箱 充氮潔凈烤箱 高溫固化烤箱支持mes等自動化通信端口， 內置計時報警功能， 氧含量實時監(jiān)測（氧化鋯分析儀
更新時間:2025-09-04
高溫百無氧烘箱，500度厭氧潔凈烤箱用pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無塵烘干的特殊工藝要求
更新時間:2025-09-04
精密循環(huán)風烤箱，精密高溫烘箱適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門。 也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗。
更新時間:2025-09-04
精密循環(huán)風烤箱，半導體硬烘烤箱適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門。 也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗.
更新時間:2025-09-04
硅箱片無氧烘，半導體厭氧烤箱，在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-09-04
hmds真空烘箱，hmds鍍膜烘箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-09-04
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