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干法清洗設備產(chǎn)品及廠家
PlasmaPen™大氣式等離子清潔系統(tǒng)
plasmapen™ 是pva tepla的大氣式等離子清潔系統(tǒng),可滿足各種表面處理要求,如表面清潔及表面活化。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
80 Plus條形等離子清潔系統(tǒng)
80 plus 條形等離子清潔系統(tǒng)為半導體加工而開發(fā),可支持手動及自動操作,兩種操作方式均簡單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站;此外,每個裝卸站都可支持不同的配置。即便沒有裝卸站,也可將其集成到生產(chǎn)線中。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
ASx 系列清洗設備
suss microtecs asx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術節(jié)點提供了先進的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩(wěn)定性和高性能使平臺能夠滿足無損加工掩模的要求,用于 248 nm 和 193 nm 光刻工藝。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
UC100-SE紫外臭氧清洗機
這款紫外臭氧清洗機,集成嵌入式控制系統(tǒng),人性化設計,便捷高效,質(zhì)量有保障,業(yè)服務,是科研與實驗的理想伙伴。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
PT500等離子清洗機
lebo science的pt500真空等離子清洗機,作為plasma treatment equipment,具備以下顯著特點:設備小巧,操作便捷:采用一鍵式操控設計,便于在科研院所等實驗環(huán)
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
GIGAbatch批量晶圓處理等離子系統(tǒng)
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)采用模塊化設計,其模塊化控制系統(tǒng)使用新一代處理器,基于 linux 平臺作為操作系統(tǒng),以及圖形用戶界面 (gui)。因此,可支持手動和全自動控制過程,并且通過 mfc 控制過程氣體。在此過程中,所有參數(shù)都被寫入程序并存儲在數(shù)據(jù)庫中。與此同時,當?shù)膲毫χ、氣體流量值、輸出值等都顯示在顯示屏上,如果當值偏離設定值,則會觸發(fā)相應的警報。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
CIF 實驗室型等離子清洗機
cif 實驗室型等離子清洗機設備在材料學,光學,電子學,醫(yī)藥學,環(huán)境學、生物學等科研域,主要用于材料表面進行清洗、活化、改性等目的。cif推出的新一代等離子體清洗設備,合理的結構設計,優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣,性能更穩(wěn)定,操作更簡便,性價比更高,使用成本更低,實用性更強,更容易維護。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
CIF手套箱用等離子清洗機
cif推出vgb-p系列手套箱用等離子清洗設備,優(yōu)化的腔體結構及合理的結構設計更適合手套箱內(nèi)使用。安裝簡單方便,性能穩(wěn)定,實用性強,容易維護。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
CIF透射電鏡樣品桿清洗機
cif透射電鏡(tem)樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設計,清洗快速高效,低轟擊損傷,同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
CIF掃描電鏡等離子清洗機
cif 掃描電鏡(sem)等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設計,清洗快速、高效、低轟擊損傷,主要用于sem或fib等電鏡腔體內(nèi)碳氫化合物的清洗。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
UV-300HC 紫外線臭氧清洗設備
uv-300hc是一款高性能的盒式裝載uv臭氧清洗機,用于生產(chǎn)。這個行業(yè)先的系統(tǒng)有2個裝載盒,可以達到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的組合,溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體(gan、sic、gaas和inp)、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
UV-300H 紫外線臭氧清洗機
uv-300h是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合,可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體(gan、sic、gaas、inp)、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
UV-1 紫外線臭氧清洗機
uv-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺加熱結合在一起,溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體(gan、gaas、inp、sic)、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
PC-300 等離子清洗設備
pc-300是一種平行板式等離子清洗機,用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架,架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產(chǎn)的各種產(chǎn)品的批量處理。
更新時間:
2025-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
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