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錦正茂直銷低溫環(huán)境實驗設備光學液氮恒溫器
錦正茂直銷低溫環(huán)境實驗設備光學液氮恒溫器為滿足更多客戶的需求,公司還研發(fā)有連續(xù)流型液氮、液氦型低溫恒溫器,使用戶不需要再實驗過程中一直添加液氮液氦,并能長時間穩(wěn)定的測量。
更新時間:2025-04-29
VFT真空光纖饋通法蘭真空環(huán)境下光學監(jiān)測
vft真空光纖饋通法蘭真空環(huán)境下光學監(jiān)測vft光纖過真空裝置可以將光導入或導出真空室,以實現(xiàn)超高真空的應用場合
更新時間:2025-04-29
科學實驗室電磁鐵產生磁場裝置定制各種形狀
科學實驗室電磁鐵產生磁場裝置定制各種形狀 可使電磁鐵在保持高磁場的可能下,實現(xiàn)大的變形。
更新時間:2025-04-29
真空熱壓燒結爐材料的高溫熱成型實驗爐
真空熱壓燒結爐材料的高溫熱成型實驗爐應用于透明陶瓷、工業(yè)陶瓷等金屬以及由難容金屬組成的合金材料的真空燒結以及陶瓷材料碳化硅和氮化硅的高溫燒結
更新時間:2025-04-29
4K閉循環(huán)低溫恒溫器樣品冷卻設備
4k閉循環(huán)低溫恒溫器樣品冷卻設備錦正茂科技有限公司所提供的4k閉循環(huán)低溫恒溫器配合控溫儀使用,可在整個工作范圍內對樣品進行控溫,操作簡單,使用維護成本低。
更新時間:2025-04-29
實驗室雙厄可變氣隙電磁鐵直立座放垂直磁場
實驗室雙厄可變氣隙電磁鐵直立座放垂直磁場可以通過更換電磁鐵頭在一定范圍內改善磁場的大小和磁場的均勻度。
更新時間:2025-04-29
定制霍爾效應測試儀高阻型材料測試系統(tǒng)
定制霍爾效應測試儀高阻型材料測試系統(tǒng)* 磁 場:10mm 間距為 2t ;30mm 間距為 1t* 樣品電流:0.05ua~50ma(調節(jié) 0.1na)* 測量電壓:0.1uv~30v
更新時間:2025-04-29
電輸運性質測量儀器設備磁阻電阻測試
電輸運性質測量儀器設備磁阻電阻測試全自動化的用測試軟件,能讓用戶快速方便地進行電輸運測試,并獲得準確可靠的數(shù)據。
更新時間:2025-04-29
雙絞排線低溫排線兼容高真空低溫環(huán)境
雙絞排線低溫排線兼容高真空低溫環(huán)境磷青銅(偏黃色)低溫雙絞排線,每米7.4歐電阻,單根15.4歐電阻 康銅線(偏綠色)低溫雙絞排線,每米31.2歐電阻,單根62.1歐姆電阻
更新時間:2025-04-29
連續(xù)流式液氮(氦)恒溫器低溫控制設備
連續(xù)流式液氮(氦)恒溫器低溫控制設備變溫范圍為4k-325k時,使用硅二管溫度傳感器,變溫范圍80k-325k時,使用有著良好穩(wěn)性和重復性的 pt100 鉑電阻,放在磁場中,使用cernoxtm磁場不敏感溫度計。
更新時間:2025-04-29
單軸亥姆霍茲線圈二維實驗室電磁線圈
單軸亥姆霍茲線圈二維實驗室電磁線圈其主要用途有:地球磁場的抵消、判定磁屏蔽效應、電子設備的磁化系數(shù)、磁通門計和航海設備的校準、生物磁場的研究等
更新時間:2025-04-29
多維磁場探針臺測試系統(tǒng)無磁材質半導體測試
多維磁場探針臺測試系統(tǒng)無磁材質半導體測試所選材料均為無磁材質,磁場均勻性:中心區(qū)50毫米球體內1%
更新時間:2025-04-29
霍爾效應實驗儀高低溫磁場型測試系統(tǒng)
霍爾效應實驗儀高低溫磁場型測試系統(tǒng)霍爾效應系統(tǒng)軟件: 可數(shù)字化調節(jié)磁場及電流,測試各類材料參數(shù)
更新時間:2025-04-29
高真空密封光纖饋通定制配套的真空法蘭盤
高真空密封光纖饋通定制配套的真空法蘭盤采用vft光纖過真空裝置可以檢測真空環(huán)境下,樣品的透射/吸收,以及熒光反射等光學反應。
更新時間:2025-04-29
定制實驗室真空熱壓燒結設備材料高溫成型實驗爐
1、采用fx系統(tǒng)真空泵,可將腔體內壓力抽至<100pa2、zdr-1電阻真空計,測量范圍0.1pa~1*105pa。
更新時間:2025-04-29
錦正茂直銷磁性材料測量系統(tǒng)振動樣品磁強計
錦正茂直銷磁性材料測量系統(tǒng)振動樣品磁強計測量磁矩范圍(磁間距30mm時):1*10-3emu—300emu(靈敏度:5×10-5emu);穩(wěn)定性(量程30emu時):連續(xù)4小時工作優(yōu)于1%。
更新時間:2025-04-29
一維亥姆霍茲線圈實驗室磁場發(fā)生器電磁線圈
一維亥姆霍茲線圈實驗室磁場發(fā)生器電磁線圈適用于各研究所,高等院校及企業(yè)做物質磁性或檢測實驗。
更新時間:2025-04-29
定制電磁鐵實驗室磁力設備磁特性研究裝置
定制電磁鐵實驗室磁力設備磁特性研究裝置同時若與北京錦正茂自主研發(fā)的高精度雙性恒流電源( 10ppm)相匹配,可以組成一套多功能實驗室磁場發(fā)生系統(tǒng)。這個系統(tǒng)中,通過真正的雙性恒流電源輸出,可以實現(xiàn)快速均勻的磁場掃描以及磁場換向,從而避免在使用非連續(xù)性電源時出現(xiàn)過零反轉的磁場突變問題,實現(xiàn)真正的零磁場。
更新時間:2025-04-29
全自動化電輸運性質測試系統(tǒng)霍爾效應磁阻測試
全自動化電輸運性質測試系統(tǒng)霍爾效應磁阻測試可以進行霍爾效應、r-h特性、r-t特性和i-v特性的測量,可得出參數(shù):方塊電阻、電阻率、霍爾系數(shù)、霍爾遷移率、載流子濃度和導電類型
更新時間:2025-04-29
磷青銅康銅雙絞低溫編織排線真空低溫環(huán)境
磷青銅康銅雙絞低溫編織排線真空低溫環(huán)境磷青銅(偏黃色)低溫雙絞排線,每米7.4歐電阻,單根15.4歐電阻 康銅線(偏綠色)低溫雙絞排線,每米31.2歐電阻,單根62.1歐姆電阻
更新時間:2025-04-29
真空熱壓燒結爐304不銹鋼爐體材料燒結實驗
真空熱壓燒結爐304不銹鋼爐體材料燒結實驗充氣系統(tǒng):由各種管道和閥門組成,可選配防爆系統(tǒng),當爐內壓力高于安全值時會自動放氣。充氣管道上裝有針閥,可選配流量計,控制充氣量,用于燒結工藝所需充氬氣,氮氣的氣氛要求。真空熱壓燒結爐實驗室新材料高溫熱成型實驗爐。
更新時間:2025-04-29
三維磁場探針臺測試系統(tǒng)半導體材料測試實驗
多維磁場探針臺,采用無磁材料制成,采用亥姆霍茲線圈正交放置,產生空間多維磁場。
更新時間:2025-04-29
1.3mm厚無氧銅減震帶導熱帶實驗室儀器配件
1.3mm厚無氧銅減震帶導熱帶實驗室儀器配件純度:6n即99.9999%; 用途:實驗室低溫減震導熱帶;
更新時間:2025-04-29
多電磁鐵實驗室矢量電磁場水冷式或風冷磁場設備
多電磁鐵實驗室矢量電磁場水冷式或風冷磁場設備電磁鐵為四結構的,軛鐵八邊形,氣隙可調,柱直徑50mm,磁直徑25mm,四在同一平面;可水平或45度角放置。
更新時間:2025-04-29
電輸運測量系統(tǒng)材料輸運性質測量儀器
電輸運測量系統(tǒng)材料輸運性質測量儀器電阻測量范圍寬:100nω(低電阻選件)~ 100gω(高阻系統(tǒng))
更新時間:2025-04-29
10K閉循環(huán)低溫恒溫器真空實驗制冷儀器設備
10k閉循環(huán)低溫恒溫器真空實驗制冷儀器設備主要用于低溫、真空環(huán)境下的磁學測量、光學測量、光電反應、光反射、熒光和磁阻等試驗。
更新時間:2025-04-29
定制實驗室霍爾測試儀變溫霍爾效應測試系統(tǒng)
定制實驗室霍爾測試儀變溫霍爾效應測試系統(tǒng)提供各類測試標準材料,各別霍爾器件(靈敏度與精度不同);樣品電流:50na~50ma(*小可調節(jié)電流為 0.1na)。
更新時間:2025-04-29
磁光克爾效應測量系統(tǒng)實驗用磁強計
磁光克爾效應測量系統(tǒng)實驗用磁強計可以將樣品放到真空中原位測量,可以測量同一樣品不同部位的磁化情況。
更新時間:2025-04-29
FCP磁場控制平臺磁測量系統(tǒng)磁光測量儀器
fcp磁場控制平臺磁測量系統(tǒng)磁光測量儀器錦正茂提供的磁場控制平臺具有不同的配制用來滿足在磁場強度、磁場均勻性、樣品尺寸、自定義測量要求等基礎之上的用戶要求。
更新時間:2025-04-29
真空磁場高溫退火設備實驗電爐調節(jié)加熱系統(tǒng)
真空磁場高溫退火設備實驗電爐調節(jié)加熱系統(tǒng)磁場控制:用戶可以直接通過軟件設定所需要的磁場大小,由高精度高斯計讀取實際磁場值,再將實際讀出的磁場值反饋給高精度恒流電源,通過電源內部軟件處理后,直接由控制高精度恒流電源的輸出電流,從而實現(xiàn)用戶所需要的磁場,并實時顯示在軟件上.
更新時間:2025-04-29
定制實驗室磁場裝置實驗電磁鐵U型磁場設備
電磁鐵的工作氣隙調節(jié)輕便靈活,頭處設有螺紋,更換頭裝卸方便,可選配工作間隙刻度指示
更新時間:2025-04-29
實驗室低溫制冷恒溫設備液氮恒溫器氣氛型
實驗室低溫制冷恒溫設備液氮恒溫器氣氛型窗口:熔融石英、紅外硅材料、藍寶石、硒化鋅、硫化鋅、鎘、碲化物、鍺、硅、氟化鎘、mylar、 kapton、鈹?shù)龋笮】筛鶕煌褂靡蠖ㄖ啤?/div> 更新時間:2025-04-29
智能型HMDS烘箱,全自動HMDS預處理系統(tǒng)#2023價格已更新
智能型hmds烘箱,全自動hmds預處理系統(tǒng)預處理性能更好,更加均勻;效率高,一次可以處理多達4盒的晶片;更加節(jié)省藥液;低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能;,有可自動吸取添加hmds功能,智能型的程式設定,一鍵完成作業(yè)。
更新時間:2025-04-29
PI固化專用厭氧烘箱,聚酰亞胺固化爐
pi固化專用厭氧烘箱,聚酰亞胺固化爐應用聚酰亞胺時需要注意的問題是厚度控制和亞胺化處理。
更新時間:2025-04-29
200kg黑蒜機,Black garlic machine
200kg黑蒜機,black garlic machine,the black garlic fermentation equipment adopts the enzymatic reaction fermentation black garlic processing method, and the enzymatic fermentation is continuously carried
更新時間:2025-04-29
抗粘劑蒸鍍機,抗粘層鍍膜機
抗粘劑蒸鍍機,抗粘層鍍膜機在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層,抗黏層般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。
更新時間:2025-04-29
全氟辛基三氯硅烷涂膠機,抗粘劑PFTS真空烘箱
全氟辛基三氯硅烷涂膠機,抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻(nil)應用,防粘涂層的制備,可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠;以及功率半導體,led,mems,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時間:2025-04-29
真空無氧烘箱,高溫無氧真空烤箱
真空無氧烘箱,高溫無氧真空烤箱用于pi膠、bcb膠固化,鍵合材料預處理,ito膜退火,pr膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、pcb板、半導體封裝、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-04-29
無氧烘箱,智能雙層無氧烘箱
無氧烘箱,智能雙層無氧烘箱應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,模擬線性升溫環(huán)境,特別適合半導體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求,
更新時間:2025-04-29
光刻工藝HMDS鍍膜機,功率MOS器件HMDS鍍膜機
光刻工藝hmds鍍膜機,功率mos器件hmds鍍膜機
更新時間:2025-04-29
智能型無塵無氧烘箱、厭氧潔凈烘箱
智能型無塵無氧烘箱、厭氧潔凈烘箱應用于精密電子元件、pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無塵烘干的特殊工藝要求,適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb 板、ito 玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).用于企業(yè)生產、科研或高校實驗室等工藝。
更新時間:2025-04-29
勻膠機,可程式勻膠機
勻膠機,可程式勻膠機用于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ito導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆。該產品具有轉速穩(wěn)定和啟動迅速等優(yōu)點,并能保證半導體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。
更新時間:2025-04-29
芯片無氧烘箱,可編程無氧烤箱:在工作時,工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途:ic包裝,lcd,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板……
更新時間:2025-04-29
氣相成底膜烤箱,HMDS蒸氣淀積系統(tǒng)
氣相成底膜烤箱,hmds蒸氣淀積系統(tǒng)用于除去硅片表面的污染物(顆粒、有機物、工藝殘余、可動離子),除去水蒸氣,使基底表面由親水性變?yōu)樵魉,增強表面的黏附性(hmds-六甲基二硅胺烷)。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料
更新時間:2025-04-29
脫模劑蒸鍍機,脫模劑鍍膜烤箱
脫模劑蒸鍍機,脫模劑鍍膜烤箱應用于半導體,光電、電子行業(yè)硅片、砂紙或石英硬模板等材料。
更新時間:2025-04-29
真空鍍膜機,脫模劑烤箱
真空鍍膜機,脫模劑烤箱應用于半導體、光電、電子行業(yè),硅片、石英等納米壓印模板材料
更新時間:2025-04-29
HMDS涂膠系統(tǒng),HMDS涂膠烤箱
hmds涂膠系統(tǒng),hmds涂膠烤箱
更新時間:2025-04-29
家用黑蒜機,黑蒜發(fā)酵機家用
黑蒜是一種非常有益健康的產品,但不是每個人都有長期食用的條件。為了滿足您的需求,我們提供適合家庭制作的家用迷你黑蒜機。
更新時間:2025-04-29
HMDS預處理系統(tǒng),晶圓HMDS烤箱
hmds預處理系統(tǒng),晶圓hmds烤箱 在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。
更新時間:2025-04-29
HMDS烘箱,hmds預處理烘箱
hmds烘箱,hmds預處理烘箱將hmds涂到樣品表面后,經烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物,將樣品表面由親水性變?yōu)槭杷,此疏水性能夠很好的與光刻膠結合,增加了樣品表面與光刻膠的粘附作用。
更新時間:2025-04-29

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