光學平臺產(chǎn)品及廠家
ure-2000 系列紫外單面光刻機此系列包含六種型號：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時間:2025-04-28
美nano-master rie反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)nrr-4000 獨立式雙rie或icp刻蝕系統(tǒng)nre-4000 獨立式rie或icp系統(tǒng)nre-3000 臺式rie系統(tǒng)ndr-4000 深硅刻蝕系統(tǒng)
更新時間:2025-04-28
美nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng) ndt-4000,是一款器件測試系統(tǒng)，俗稱“熱真空系統(tǒng)”,可以用于真空和可控的均勻加熱以及冷卻循環(huán)條件下的器件或樣片測試。
更新時間:2025-04-28
美nano-master rtp快速退火爐nrt-3500 緊湊型獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式大批量rtp系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射
更新時間:2025-04-28
美nano-master swc單晶圓清洗系統(tǒng)swc-3000 臺式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-4000 立柜式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-5000 帶25片cassette 機械手自動清洗nrt-4000 獨
更新時間:2025-04-28
美nano-master 大基片清洗機 large substrate cleaning :lsc-4000 是一款獨立式清洗機，使用計算機控制，大可支持外徑21”的基片。
更新時間:2025-04-28
韓國ecopia 全自動變溫霍爾效應(yīng)測試儀 hms-5300lth,溫度范圍：80k-573k,測量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半導體薄膜(p 型和 n 型)；
更新時間:2025-04-28
英國quorum q150t plus 鍍金鍍碳一體機，是一款優(yōu)化設(shè)計的帶渦輪分子泵抽真空的鍍膜設(shè)備，真空度可達5x10-5mbar？梢詾R射具有超細成膜顆粒的易氧化金屬，適用于高分辨率成像。同樣地，低散射可得到均勻而致密的無定形碳膜。
更新時間:2025-04-28
suss蘇斯/休斯，evg, oai等系列光刻機用曝光燈hbo系列，suss蘇斯，evg, oai公司生產(chǎn)的半導體和太陽能行業(yè)用光刻機，目得到業(yè)界的廣泛認同，該系列光刻機曝光系統(tǒng)的曝光燈，主要是由德國歐司朗及日本牛尾公司生產(chǎn)的曝光燈進行配套供應(yīng)。歐司朗/牛尾曝光燈系列，具備良好的光通量，穩(wěn)定的光強度以及優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)受到業(yè)界的青睞。
更新時間:2025-04-28
adlema先進的檢漏機bt4000技 術(shù) 規(guī) 格• 尺 寸 :270x200x300mm• 重 量 :8kg• 電 源 輸 入 :24 vdc• 管 徑 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8
更新時間:2025-04-28
美國kla insem ht原位高溫納米力學測試系統(tǒng)，納米壓痕儀，樣品加溫可達800 ℃，樣品尺寸可達10mm，裝樣系統(tǒng)與真空環(huán)境兼容
更新時間:2025-04-28
德國iplas mpcvd cyrannus® 利技術(shù)微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)，廣泛應(yīng)用于第四代半導體，射頻器件，散熱器件，光學窗口等高科技令域，晶圓生長金剛石膜，被譽為半導體終材料。
更新時間:2025-04-28
德國yxlon多用途高分辨率ct系統(tǒng)ff35 ct,微焦點、納米焦點雙射線 源配置，大限度提高多 功能性 • 單或雙射線源配置，可大限度提高 ct 應(yīng)用 多功能性
更新時間:2025-04-28
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時間:2025-04-28
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時間:2025-04-28
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過與sem的馬達驅(qū)動樣品臺聯(lián)動使用，可以進行大范圍的觀察和分析。 eds通過檢測被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線，確定樣品含有的元素及成分比，可以進行微區(qū)的點分析、線分析及面分析。
更新時間:2025-04-28
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機型。 從設(shè)定視野到生成報告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業(yè)速度！是一款無縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
更新時間:2025-04-28
日本jeol 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學系統(tǒng)應(yīng)用了日本電子旗艦機-jsm-7800f prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術(shù)，標配了ttls系統(tǒng)（through-the-lens system），因此無論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統(tǒng)機型有了很大的提升。
更新時間:2025-04-28
新一代超高精度電子束光刻機 p21，樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓，超高寫場拼接精度，電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，束流的時間及空間穩(wěn)定性高，高性能 30 kv 電子束光刻機。
更新時間:2025-04-28
opticool超精準全開放強磁場低溫光學研究平臺，系統(tǒng)擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體，可在超大空間為您提供高達±7t的磁場。多達7個側(cè)面窗口、1個頂部超大窗口方便光線由各個方向引入樣品腔，高度集成式的設(shè)計讓您的樣品在擁有低溫磁場的同時擺脫大型低溫系統(tǒng)的各種束縛。
更新時間:2025-04-28
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡，采用模塊化的設(shè)計。利用標配的控制器和樣品掃描臺，用戶僅需要更換掃描頭和對應(yīng)的光學部件即可實現(xiàn)不同功能之間的切換。
更新時間:2025-04-28
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時間:2025-04-28
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機,采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時間:2025-04-28
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機,,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，全自動）和高校教學科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非？煽，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2025-04-28
ure-2000/35 型紫外單面光刻機,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非？煽，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2025-04-28
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機,曝光面積：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（膠厚 2.0 μm 的正膠，365nm 波長）
更新時間:2025-04-28
ure-2000/17 型紫外單面光刻機（臺式）,曝光面積：4 英寸,分辨力：1.5μm（膠厚 2 m 的正膠）,對準精度：±1μm
更新時間:2025-04-28
ure-2000/25 型紫外單面光刻機，曝光面積：4 英寸,分辨力：1 μm（膠厚 2 μm的正膠）,對準精度：± 0.8μm
更新時間:2025-04-28
ure-2000s/25 型紫外雙面光刻機，曝光面積：4 英寸，正面對準采用雙目雙視場對準顯微鏡：既可通過目鏡目視對準，也可通過 ccd+顯示器對準，光學合像，光學大倍數(shù) 400 倍，光學+電子放大 800 倍
更新時間:2025-04-28
ure-2000s/b 型紫外雙面光刻機,曝光面積：6 英寸，對準精度：± 2μm （雙面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （單面）
更新時間:2025-04-28
ure-2000s/a8 型紫外雙面光刻機, 曝光面積：8 英寸, 曝光波長：365nm： 15mw/cm，405nm：15-30mw/cm2, 對準精度：±2 μm （雙面,片厚 0.8mm）±0.8 μm （單面）
更新時間:2025-04-28
ure-2000s/25s 型雙面光刻機，曝光面積：4 英寸（或 6 英寸），正面對準采用雙目雙視場對準顯微鏡：既可通過目鏡目視對準，也可通過 ccd+顯示器對準，光學合像，光學大倍數(shù) 400 倍，光學+電子放大 800 倍
更新時間:2025-04-28
ure-2000s/35l（a）型紫外雙面光刻機，曝光面積：6 英寸，正面對準采用雙目雙視場對準顯微鏡：既可通過目鏡目視對準，也可通過 ccd+顯示器對準，光學合像，光學大倍數(shù) 400 倍，光學+電子放大 800 倍
更新時間:2025-04-28
ure-2000s/35l（b）型雙面光刻機, 曝光面積：4 英寸, 正面對準采用雙目雙視場對準顯微鏡：既可通過目鏡目視對準，也可通過 ccd+顯示器對準，光學合像，光學 大倍數(shù) 400 倍，光學+電子放大 800 倍
更新時間:2025-04-28
ure-2000/30 型紫外單面光刻機,高倍率雙目雙視場顯微鏡和 22 英寸寬屏液晶顯示同時觀察對準過程，并提供 usb 輸出；既滿足高精度對準，又可用于檢測曝光結(jié)果，且曝光結(jié)果和方便存儲
更新時間:2025-04-28
ure-2000/35al 型紫外單面光刻機,曝光面積：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波長）,對準精度：≤±0.8μm
更新時間:2025-04-28
美國 oai 光刻機 model 200 型桌面掩模對準器系統(tǒng)，完全手工操作，輸出光譜范圍:hg: g(436海里),h(405海里),i(365nm)和310nm線，hg-xe: 260nm和220nm或led: 365nm, 395nm, 405nm
更新時間:2025-04-28
oai model 212型桌面掩模對準系統(tǒng), 輸出光譜范圍:hg: g(436nm),h(405nm),i(365nm)和310nm,hg-xe: 260 nm和220 nm或led:365 nm、395 nm和405 nm
更新時間:2025-04-28
oai model 800e 型掩模對準系統(tǒng)，各種光譜范圍選項:hg燈:g(436nm),h(405nm)， i(365nm)和310nm線，hg-xe燈:260nm和220nm
更新時間:2025-04-28
oai的面板掩模光刻機 model 6020s, 用于foplp型號6020s -半自動化或自動化,實現(xiàn)500mm x 500mm 晶圓尺寸的fo-plp加工.
更新時間:2025-04-28
nie-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，nir-4000 ibe/rie 雙刻蝕系統(tǒng)，通過加速的 ar 離子進行物理刻蝕或銑削。對于硅的化合物也可以通過反應(yīng)離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。
更新時間:2025-04-28
hysitron ti 980 納米壓痕儀bruker hysitron ti 980 triboindenter 加速納米力學研究進入更高階段,同時具有高的性能、靈活性、可信度、實用性和速度。基于海思創(chuàng)幾十年的技術(shù)創(chuàng)新，它為納米力學表征帶來了高水平的性能、功能和易用性。ti 980達到了臺優(yōu)異納米力學測試儀
更新時間:2025-04-28
echo pro 全自動超聲波掃描顯微鏡美 sonix 全自動超聲波掃描顯微鏡echo pro , 批量 tray盤和框架直接掃瞄, 編程自動判別缺陷, 高產(chǎn)量,無需人員重復設(shè)置, 自動烘干.
更新時間:2025-04-28
日本rion液體光學顆粒度儀ks-19f,寬廣的測試范圍，可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng)，非常適合于iii/v族， ii/vi族，及其他復合半導體材料應(yīng)用。兼容2-4英寸標準晶片。豎直分割式腔體設(shè)計，可以裝配各種源爐，實現(xiàn)不同材料分子束外延生長。
更新時間:2025-04-28
最新產(chǎn)品
- JZYB 重錘料位計 不銹鋼 工業(yè) 山西 2025/4/28 18:38:46
- 上海祥樹供應(yīng)DAMCOS備件 2025/4/28 17:43:04
- 上海祥樹供應(yīng)KNF備件 2025/4/28 17:41:04
- 上海祥樹供應(yīng)STAUBLI備件 2025/4/28 17:40:26
- 上海祥樹供應(yīng)WIKA備件 2025/4/28 17:40:04
- 上海祥樹供應(yīng)ROLLON備件 2025/4/28 17:39:47
- 上海祥樹供應(yīng)STOBER備件 2025/4/28 17:39:28
- 上海祥樹供應(yīng)KEB備件 2025/4/28 17:38:45
- 上海祥樹供應(yīng)KEB備件 2025/4/28 17:38:21
- 上海祥樹供應(yīng)KEBA備件 2025/4/28 17:37:54
- 上海祥樹供應(yīng)AMC備件 2025/4/28 17:37:30
- 上海祥樹供應(yīng)MISUMI備件 2025/4/28 17:37:11
- 上海祥樹供應(yīng)PROFINET備件 2025/4/28 17:36:48
- 上海祥樹供應(yīng)EAO備件 2025/4/28 17:36:22
- 上海祥樹供應(yīng)IBM備件 2025/4/28 17:35:23
- 上海祥樹供應(yīng)MPFILTRI備件 2025/4/28 17:34:39
- 上海祥樹供應(yīng)Schiller備件 2025/4/28 17:33:12
- 上海祥樹供應(yīng)HORMEC備件 2025/4/28 17:32:49
- 上海祥樹供應(yīng)E+H備件 2025/4/28 17:32:25
- 上海祥樹供應(yīng)RoboteQ備件 2025/4/28 17:32:02
- 上海祥樹供應(yīng)SCHMERSAL備件 2025/4/28 17:31:43
- 上海祥樹供應(yīng)WEIDMULLER備件 2025/4/28 17:31:09
- 上海祥樹供應(yīng)SCHMERSAL備件 2025/4/28 17:30:26
- #推送品牌MSK070C-0300-NN-M1-UG0-NNNN 2025/4/28 17:24:01
- #市場推送05-3566-01PCBA光纖通信 2025/4/28 17:23:44
- #優(yōu)勢主推ILE2K662PC1A0 2025/4/28 17:23:31
- #推送品牌20-0004-04PCBA軟盤接口51/4英寸 2025/4/28 17:23:14
- #市場推送6SL3000-0BE21-6DA0 2025/4/28 17:22:58
- #優(yōu)勢主推ILE2K661PB1A6 2025/4/28 17:22:43
- #推送品牌ILE2T661PB1A5 2025/4/28 17:22:23