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制劑設備產品及廠家

美國 Nano DeBEE 實驗室用 新一代改進型超高壓對射流均質機
美國 nano debee 實驗室用 新一代改進型超高壓對射流均質機,可用于脂質體，脂肪乳，混懸劑，分散液，微膠囊，細胞破碎，降低食品、藥物、材料粒徑至納米級等等.高硬度,高粘性物料同樣適合。
更新時間:2025-08-18
美國 Mini DeBEE 中試用 新一代改進型超高壓對射流均質機
美國 mini debee 中試用 新一代改進型超高壓對射流均質機的詳細描述： 主要技術參數：專利型debee特有的乳化分散均質核心件，無活動部件。分散均質部件可自行調控，為您提供廣泛的實驗室應用。plc電控及簡易按鈕操作的監(jiān)控系統(tǒng)面板最高使用壓力可達45000psi(310mpa)可調背壓：0~5000 psi(34.5mpa)電源為二相的220v最大處理流量為250ml/min操作樣品標準量為30ml，最小量為10ml配備物料在線冷卻罐電源380v-50hz-3相-4kw容易拆裝和清洗，可被蒸壓滅菌全sus不銹鋼材質尺寸：長
更新時間:2025-08-18
美國 DeBEE 2000 新一代改進型超高壓對射流均質機
美國 debee 2000 新一代改進型超高壓對射流均質機的詳細描述： 主要技術參數：專利型debee特有的乳化分散均質核心件。分散均質部件可自行調控，為您提供廣泛的實驗室應用。僅一次制程就可使產品達到預想的處理目標plc電控及簡易按鈕操作的監(jiān)控系統(tǒng)面板二臺同步的增壓腔，保證持續(xù)穩(wěn)定的制程高壓最高使用壓力可達45000psi(310mpa)可調背壓：0~5000 psi(34.5mpa)電源為二相的220v最大持續(xù)處理流量為1l/min操作樣品標準量為50ml，最小量為10ml配備物料在線冷卻罐電源380v-50hz-3相-7.5k
更新時間:2025-08-18
美國 DeBEE 2000P 生產型 新一代改進型超高壓對射流均質機
美國 debee 2000p 生產型 新一代改進型超高壓對射流均質機的詳細描述： 主要技術參數：專利型debee特有的乳化分散均質核心件。分散均質部件可自行調控，為您提供廣泛的實驗室應用。僅一次制程就可使產品達到預想的處理目標plc電控及簡易按鈕操作的監(jiān)控系統(tǒng)面板多臺同步工作的增壓腔，保證持續(xù)穩(wěn)定的制程高壓內部結構設計合理，空間占用小。最高使用壓力可達45000psi(310mpa)可調背壓：0~5000 psi(34.5mpa)電源為二相的220v最大處理流量為2l-100l/min電源380v-50hz-3相-20hp-250hp（
更新時間:2025-08-18

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